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Kolumnar strukturierte Wärmedämmschichtendurch Dünnfilm-Niederdruck-Plasmaspritzen


Wissenschaftlicher Fachbeitrag

Autoren: Dipl.-Min. Andreas Hospach, Dr.-Ing. Georg Mauer, Prof. Dr. Robert Vaßen, Prof. Dr. Detlev Stöver
Der Dünnfilm-Niederdruck-Plasmaspritz-Prozess ist eine Weiterentwicklung des Niederdruck-Plasmaspritzens mit noch geringerem Kammerdruck und höherer Brennerleistung. Er soll die Lücke zwischen Plasmaspritzen und physikalischem Gasphasenabscheiden schließen. Durch die hohe Brennerleistung von bis zu 150 kW und den geringen Kammerdruck von etwa 1 mbar kann das Spritzpulver verdampft und die Beschichtungsfläche vergrößert werden. Der vorliegende Beitrag beschreibt weitere Prozessmerkmale sowie die Untersuchung von mit diesem Prozess hergestellten kolumnaren Wärmedämmschichten aus Yttrium-teilstabilisiertem Zirkoniumdioxid hinsichtlich ihres thermischen Zyklierverhaltens.
Seiten: 123 - 127
Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3 Seite 123
Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3 Seite 124
Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3 Seite 125
Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3 Seite 126
Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3 Seite 127

Dieser Artikel ist in der Ausgabe 2 (2010) erschienen.

Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3
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Ausgabe 2 (2010) Jahrgang 3
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