Einführung eines Tageseffekt-Schätzers zurVerbesserung der Vorhersage von Partikel -eigenschaften in einem HVOF-Spritzstrahl

Thermische Spritzprozesse werden von einer Vielfalt kontrollierbarer und nicht kontrollierbarer Faktoren beeinflusst. Aufgrund zufälliger Störgrößen können sich Spritzergebnisse tagesabhängig stark unterscheiden. Mithilfe moderner Prozessdiagnostik lässt sich zeigen, dass sich bei gleichen Prozessparametern die Eigenschaften der Partikel im Flug an verschiedenen Tagen verändern. Speziell die Partikeltemperatur ist von solchen Schwankungen betroffen. Die Sicherstellung der Reproduzierbarkeit von Spritzprozessen kann daher bereits auf der Ebene der Partikeleigenschaften ansetzen. Der hier präsentierte Lösungsansatz kompensiert die Prozessschwankungen durch die Erweiterung statistischer Prognosemodelle um einen additiven tagesabhängigen Effektschätzer. Dieser wird durch wenige Initialisierungsmessungen zu Beginn eines Messtags ermittelt und die Prozessparameter den Modellen entsprechend angepasst, um den Tageseffekt zu eliminieren. Die Vorhersagegüte des Modells konnte hierdurch deutlich verbessert werden.